Chinas Anteil sank Ende 2024 nach einem Hoch. EUV steht für Systeme mit extrem-ultravioletter Belichtungstechnik (13,5 nm und darunter). ArFi = Immersionslithografie mit Argonfluorid (193 nm); unter der Linse befindet sich eine Schicht Reinstwasser, das die Strahlen stärker fokussiert. ArF = Lithografie mit Argonfluorid, ohne Reinstwasserschicht (193 nm). KrF = Lithografie mit Kryptonfluorid (248 nm). I-Line nutzt Licht mit einer Wellenlänge von 365 nm.
